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光敏聚酰亞胺的結構分析

點擊次數:2080    發布日期:2015-07-07   本文鏈接:http://www.miribilla.net/news/492.html

      光敏聚酰亞胺(PSPI)是一類在高分子鏈上兼有亞胺環及光敏基團,集優異的熱穩定性、良好的機械、電氣、化學和感光性能于一體并且發展迅速的有機材料。目前,作為新型功能高分子材料PSPI已被廣泛用在射線屏蔽層材料、絕緣層材料、緩沖層材料、平坦層材料、液晶定向層材料、非線性光學材料、光波導材料、離子注入掩膜、耐高溫氣液分離膜、撓性印制電路等各個方面,特別是在微電子、航天航空、光電子等領域,更是受到科研工作者的重視,顯示了極大的發展潛力和市場競爭力。然而,國內仍處于起步階段,無論是在研制與開發還是在工業化及其應用方面與日本、美國、西歐等國家和地區相比都有很大的差距,PSPI幾乎全由國外進口,因此PSPI的研制和開發對我國高新技術產業發展具有極其重要的理論意義和實際意義。

      根據PSPI的制備方法、結構特點及感光活性物質,可將PSPI大致分為以下幾類:離子型負性PSPI、酯型負性PSPI、自增感型負性PSPI、鄰硝基芐酯正性PSPI、聚異酰亞胺正性PSPI、重氮萘醌磺酸酯正性PSPI。但在工業上可供應的PSPI非常有限,國外也僅有酯型、離子型、自增感型等30g負性PSPI得到了實用化。酯型PSPI具有較好的溶解性能和良好的成膜性能,但是制得的高聚物分子量很低,致使其機械性能較差,熱穩定性也相對下降。而離子型PSPI由于在亞胺化過程中脫去了大量分子,造成留膜率很低,大大影響了圖形的分辨率,但其制備工藝相對而言非常方便、經濟。自增感型PSPI雖然克服了離子型PSPI留膜率低的缺點,但因為曝光條件嚴格等因素造成其光刻后的圖形分辨率下降,同時它的原料不像前兩類可任意選擇二元胺與酸酐,使得成本較高。
 


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